TraceClean

Vår leverandør Milestone har utviklet traceCLEAN, et helautomatisk, selvstendig, syre damp-rensingssystem for utstyr til spormetallanalyse

Laila Hagevik Kvalheim‘s Portrait

Laila Hagevik Kvalheim

Avdelingsleder Analyse

+47 48 15 98 59
Laila.kvalheim@holgerhartmann.no

Ønsker du mer informasjon eller en gratis online demo?

Nei, ta meg til nedlastning av dokument

Takk for interessen. Vi tar kontakt med deg innen kort tid

Få full kontroll på kontaminanter!

Rengjøring av forskjellige utstyr som brukes ved analyse av spormetaller er en viktig laboratorierutine. For å fjerne forurensning benyttes ofte tradisjonelle rengjøringsmetoder, som å bløtlegge i syre, ofte i flere timer. For at dette skal være effektivt forbrukes store mengder syre som må skiftes ut regelmessig. Det er også en betydelig risiko for eksponering for syrer og syredamp.

For å løse disse problemene, har vår leverandør Milestone utviklet traceCLEAN, et helautomatisk, selvstendig, syre damp-rensingssystem for utstyr til spormetallanalyse

traceCLEAN er;

Allsidig:
Gir den beste rengjøringskvaliteten på labutstyr, TFM, glass eller kvartsdeler av forskjellig størrelse.

Sikker og enkel å bruke:
I
ngen eksponering for operatøren for syre damp.

Svært produktiv:
Rask, praktisk, ren og helautomatisk. Vaskeprosessen tar omtrent en time!

Kostnadseffektiv og produktiv:
Lite syreforbruk fordi det kreves ikke bløtlegging og utskifting av syre.

Beholderen som skal rengjøres plasseres over en PTFE-belagt glassstang. Syre i det nedre reservoaret oppvarmes, og renset syredamp beveger seg opp gjennom glassstangen og kondenserer på beholderen og fjerner overflateforurensning. Denne rengjøringsmetoden er et foretrukket alternativ til metodene for bløtlegging av forkondisjonering av følgende årsaker:

·       Spormetallforurensningen som finnes i syreagenskvaliteten, forblir i det nedre reservoaret og kommer ikke i kontakt med komponenten som skal rengjøres.

·       Den rene komponenten forblir ikke i kontakt med rensesyren etter at overflateforurensningen er fjernet.

De kritiske overflatene til den rene komponenten er tørre når rengjøringsprosessen er fullført. Dette eliminerer behovet for skylling og lufttørking.

Rengjøringsprosessen foregår i en forseglet beholder som minimerer luftbåren forurensning og gir et rent miljø for komponentene som skal lagres til de er nødvendige.

Kontakt

Påmelding nyhetsbrev